荷兰半导体设备制造商ASML向一位未公开的客户运送了其有史以来第二台高数值孔径（NA）极紫外（EUV）光刻机。
ASML的高NA EUV芯片制造机器旨在使未来的节点比目前的EUV工具（被认为是低NA）更密集。路透社报道的第二台高NA机器的出货表明，最新技术正在逐步被采用。
然而，无论哪家公司购买了High NA EUV机器，ASML都对其身份保密，我们只能猜测它可能是谁。路透社指出，英特尔、台积电和三星是明显的候选人；毕竟，英特尔为其即将推出的14A节点购买了有史以来第一个High NA EUV工具，并于2024年初在其位于俄勒冈州希尔斯伯勒的工厂收到了第一个TWINSCAN EXE:5200系统。
台积电和三星已经确认，他们希望采用ASML的高NA技术。
不过，这三家顶级半导体公司并不是尖端硬件的唯一可能接受者。12月，有传言称，包括IBM和美光在内的公司即将合作运营的一家半导体工厂将获得ASML的一台高NA EUV机器，这可能是有史以来第二台机器的去向。此外，如果英特尔、台积电和三星已经拿到了这台机器，可能很难将其保密很长时间。
尽管到目前为止，这种芯片制造设备只有两台，但ASML计划生产更多，因为它还订购了10到20台额外的机器。以3.5亿欧元（3.73亿美元）的价格，这意味着ASML的账面订单至少为35亿欧元（37亿美元），加上已经售出的两台高NA机器，ASML预计在不久的将来高NA EUV设备的销售额将超过40亿欧元。
这家荷兰半导体公司可能需要销售尽可能多的高NA机器，因为西方对中国的制裁对ASML的业务没有好处，至少从长远来看是这样。ASML仍然依赖于向中国出口工具：今天公布的第一季度业绩显示，该公司49%的销售额来自中国。
净利润同比下降40%，这可能是因为中国客户在第四季度匆忙下单，以赶在未来制裁之前。包括华为在内的中国科技公司正在寻求在国内生产ASML本应提供的高科技设备，这意味着，ASML的中国业务可能无论如何都会受到打击。