1月8日，日本昭和电工株式会社官网发布公告，为了强化电子材料用高纯度气体事业，决定在上海生产基地——上海昭和电子化学材料有限公司（以下简称“上海昭和”）的旁边取得第二工厂建设用地，建设高纯度N2O（一氧化二氮）和高纯度C4F8（八氟环丁烷）的生产设施，以及高压气体危险品仓库。
据介绍，高纯度N2O主要是半导体及显示屏制造时的氧化膜的氧来源的特种气体，高纯度C4F8主要是这种氧化膜的微细加工（蚀刻）时的特种气体。昭和电工表示，由于第5代移动通信（5G）等信息通信领域的发展，以及中国政府的产业培育政策，预计今后中国的半导体及显示屏市场（有机EL电视机等）将会扩大。
昭和电工指出，目前公司在川崎事业所和韩国基地生产高纯度N2O，并在川崎事业所和上海基地（上海昭和第一工厂）生产高纯度C4F8。为了提高对日益增长市场的稳定供应能力，昭和电工正致力于进一步推进“地产地销”的政策。同时，在中国逐年加强对化学品的监管的形势下，在上海建设并完善本公司拥有的高压气体危险品仓库，对增强供应链、提高竞争力将大有帮助。
根据昭和电工公布的资料，上海昭和第二工厂面积约10000平米，计划建设高纯度N2O年生产能力1000吨、高纯度C4F8 年生产能力 600吨、高压气体危险品仓库，第二工厂计划于2021年下半年投产。
此外，由于预计中国台湾的半导体市场同样也会扩大，昭和电工子公司“台湾昭和化学品生产股份有限公司”也将新建年产150吨高纯度C4F8的生产设施（计划2020年春投产）。本次昭和电工在上海和台湾的投资总额约为30亿日元。
资料显示，昭和电工是一家综合性集团企业，产品涉及到石油、化学、无机、铝金属、电子信息等众多领域。2019年12月，昭和电工宣布成功收购日立化成，后者是电子电气材料领域的主要企业之一，在半导体材料方面具有领先优势。