半导体联盟消息，2020年2月20日，三星电子宣布，其位于韩国华城的新尖端半导体生产线已开始批量生产。
据三星官网介绍，该工厂V1是三星第一条致力于极紫外（EUV）光刻技术的半导体生产线，采用7纳米以下的工艺制程生产芯片。该生产线于2018年2月破土动工，并于2019年下半年开始测试晶圆生产，三星表示，第一批产品将于今年第一季度交付给客户。
三星电子公司总裁兼晶圆代工业务主管ES Jung说： “随着产量的增加，V1生产线将强化三星响应市场需求的能力，并扩大为客户提供支持的机会。”
V1生产线目前正在生产采用7纳米和6纳米工艺制程生产的最先进的移动芯片，并将继续采用更精细的电路，直至3纳米工艺节点。
根据三星的计划，到2020年底，V1生产线的累计总投资将达到60亿美元，预计7纳米及以下工艺制程的总产能将比2019年增长三倍。
三星电子指出，采用EUV技术将为次世代应用(例如：5G、人工智能、汽车电子等)提供最佳选择。
随着V1生产线的投入使用，三星目前在韩国和美国共有6条晶圆代工生产线，其中包括5条12英寸生产线和1条8英寸生产线。
以下为三星代工厂的全球制造基地：
Source：三星官网
封面图片来源：三星电子